原子印章和光敏印章是两种不同的印章制作技术，它们在制作过程和使用效果上都有很大的区别。

首先，原子印章是一种利用化学反应制作的印章。制作原子印章需要使用硬质材料，如金属或者陶瓷，将印章图案刻在上面。然后，在印章表面涂上一层特殊的颜料，颜料中含有放射性物质。当颜料与原子相遇时，会发生放射性反应，使得颜料在印章表面形成一层坚硬的保护膜，从而保证印章的耐用性和防伪性。

而光敏印章则是一种利用光敏化学反应制作的印章。制作光敏印章需要使用一种特殊的光敏膜，将印章图案印在上面。然后，将光敏膜暴露在紫外线下，使得光敏膜中的化学物质发生反应，从而在印章表面形成一层保护膜。这种保护膜可以有效地保护印章图案，同时也具有一定的防伪性能。

在使用效果方面，原子印章具有更长的使用寿命和更高的防伪性能，但制作成本和安全风险也更高。而光敏印章则制作成本较低，制作过程也更加安全，但使用寿命和防伪性能相对较低。

总之，原子印章和光敏印章是两种不同的印章制作技术，在制作过程和使用效果上都有各自的优缺点。用户可以根据自己的需求和实际情况选择适合自己的印章类型。